一文帶你詳細(xì)了解粒徑分析儀的兩大主要測(cè)量技術(shù)
點(diǎn)擊次數(shù)：1051次 更新時(shí)間：2021-09-13
粒徑分析儀是一種測(cè)量、呈現(xiàn)和報(bào)告特定粒子或者液滴群粒度分布的分析儀。粒度分析儀在個(gè)別以及方法特定邊界條件下，按照特定的測(cè)量方法（例如：圖像分析、激光背向散射或激光衍射）運(yùn)行。由于微觀(guān)晶體粒度較小，因此通常需要使用更加復(fù)雜的分析設(shè)備。常規(guī)粒度測(cè)量方法包括圖像分析、激光背向散射、激光衍射或篩分分析法。所有粒度分析儀根據(jù)其特定的測(cè)量方法為同一個(gè)粒子提供不同值。粒度分析儀在工藝開(kāi)發(fā)以及粒子系統(tǒng)質(zhì)量控制方面起到重要作用，可建立起高效的工藝和取得高質(zhì)量的最終產(chǎn)品。
（1）聚焦光束反射測(cè)量技術(shù)：
當(dāng)過(guò)程中存在顆粒時(shí)，使用采用FBRM技術(shù)的探頭式儀器，可實(shí)時(shí)進(jìn)行粒徑與粒數(shù)分析。獲取關(guān)于顆粒粒徑、粒數(shù)與形狀的實(shí)時(shí)測(cè)量結(jié)果：
·無(wú)需取樣或旁通回路，可直接在工藝中測(cè)量；
·研究顆粒的特定區(qū)間（細(xì)粒與粗粒）；
·研究不透明或半透明漿體與乳液中的顆粒；
·直接觀(guān)察工藝變化對(duì)顆粒產(chǎn)生的影響；
·可監(jiān)測(cè)大多數(shù)工藝濃度條件下的0.5-1000μm顆粒。
（2）顆粒錄影顯微鏡技術(shù)：
PVM在當(dāng)前工藝條件下，通過(guò)高分辨率的錄影顯微鏡，實(shí)時(shí)原位監(jiān)測(cè)顆粒，氣泡，以及液滴。
粒徑分析儀的注意事項(xiàng)：
（1）探頭插入角度最好是30°-60°，與顆粒流動(dòng)方向一致，確保有代表性的顆粒經(jīng)過(guò)探頭窗口，消除盲區(qū)可能性，降低探頭粘附可能性。
（2）識(shí)別和避免窗口粘附，避免粘附的方法，確保*的探頭方向–流體沖刷探頭窗口，在軟件中始終選擇“stuckparticlecorrection，拔出探頭，清洗探頭。
（3）選擇正確的平滑度，過(guò)度平滑，導(dǎo)致不能呈現(xiàn)原始數(shù)據(jù)的趨勢(shì)。
（4）選擇好的弦長(zhǎng)計(jì)算模型。